光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。可用于深硅刻蚀，适合于高深宽比工艺，透明度高，垂直度好。
SU-8光刻胶属于厚胶Thick Resist，常见的SU-8有SU-82000.5/SU-82000.2/SU-82007/SU-8 3000系列负性光刻胶/SU-8TF6000系列负性光刻胶/SU-8 3050负性光刻胶。常被用于微机械加工及其他微电子应用领域，如制作电镀模具，传感器，微纳结构等。
瑞禧WFF.2022.6